Belaaschtung bedeit datt ënner der Bestrahlung vun ultravioletem Liicht de Photoinitiator d'Liichtenergie absorbéiert an a fräi Radikale zerfällt, an déi fräi Radikale initiéieren dann de Photopolymeriséierungsmonomer fir d'Polymeriséierung an d'Vernetzungsreaktioun auszeféieren. D'Beliichtung gëtt allgemeng an enger automatescher duebelsäiteger Beliichtungsmaschinn duerchgefouert. Elo kann d'Beliichtungsmaschinn a Loftgekillt a Waassergekillt opgedeelt ginn no der Killmethod vun der Liichtquell.

Faktoren déi d'Beliichtungsbildqualitéit beaflossen

Zousätzlech zu der Leeschtung vum Film Photoresist sinn d'Faktoren, déi d'Qualitéit vun der Beliichtungsbildung beaflossen, d'Auswiel vu Liichtquellen, d'Kontroll vun der Beliichtungszäit (Beliichtungsbetrag) an d'Qualitéit vun de fotografesche Placke.

1) D'Wiel vun der Liichtquell

All Zort vu Film huet seng eege eenzegaarteg Spektralabsorptiounskurve, an all Zort vu Liichtquell huet och seng eege Emissiounsspektralkurve. Wann den Haaptspektralen Absorptiounspeak vun enger bestëmmter Zort Film iwwerlappt oder meeschtens mat der Spektral Emissioun Haaptpeak vun enger bestëmmter Liichtquell iwwerlappe kann, sinn déi zwee gutt ugepasst an d'Beliichtungseffekt ass am beschten.

D'Spektral Absorptiounskurve vum Hausdrockfilm weist datt d'Spektralabsorptiounsregioun 310-440 nm (Nanometer) ass. Aus der spektraler Energieverdeelung vu verschiddene Liichtquellen, kann et gesi ginn datt d'Picklampe, d'Héichdrock Quecksilberlampe an d'Jod-Galliumlampe relativ grouss relativ Stralungsintensitéit am Wellelängteberäich vun 310-440nm hunn, wat eng ideal Liichtquell ass fir Filmbelaaschtung. Xenon Luuchten sinn net gëeegent firGeforvun trocken Filmer.

Nodeems d'Liichtquelltyp ausgewielt gëtt, sollt d'Liichtquell mat héijer Kraaft och berücksichtegt ginn. Wéinst der héijer Liichtintensitéit, héijer Opléisung a kuerzer Beliichtungszäit ass de Grad vun der thermescher Verformung vun der fotografescher Plack och kleng. Zousätzlech ass den Design vu Luuchten och ganz wichteg. Et ass néideg ze probéieren den Tëschefall Liicht uniform a parallel ze maachen, fir de schlechten Effekt no der Belaaschtung ze vermeiden oder ze reduzéieren.

2) Kontroll vun der Beliichtungszäit (Beliichtungsbetrag)

Wärend dem Beliichtungsprozess ass d'Fotopolymeriséierung vum Film net "One-Shot" oder "One-Exposure", mee geet normalerweis duerch dräi Etappen.

Wéinst der Verhënnerung vu Sauerstoff oder aner schiedlech Gëftstoffer an der Membran ass en Induktiounsprozess erfuerderlech, an deem d'fräi Radikale generéiert duerch d'Zersetzung vum Initiator duerch Sauerstoff a Gëftstoffer verbraucht ginn, an d'Polymeriséierung vum Monomer ass minimal. Wéi och ëmmer, wann d'Induktiounsperiod eriwwer ass, geet d'Photopolymeriséierung vum Monomer séier weider, an d'Viskositéit vum Film erhéicht séier, an den Niveau vun der plötzlecher Verännerung. Dëst ass d'Etapp vum schnelle Konsum vum fotosensiblen Monomer, an dës Etapp stellt d'Majoritéit vun der Beliichtung wärend dem Beliichtungsprozess aus. D'Zäitskala ass ganz kleng. Wann de gréissten Deel vum fotosensiblen Monomer verbraucht gëtt, geet et an d'Monomer Ausarmzon, an d'Fotopolymeriséierungsreaktioun ass zu dëser Zäit ofgeschloss.

Korrekt Kontroll vun der Belaaschtungszäit ass e ganz wichtege Faktor fir gutt trocken Filmresistenzbilder ze kréien. Wann d'Belaaschtung net genuch ass, wéinst der onvollstänneger Polymeriséierung vun de Monomeren, während dem Entwécklungsprozess, schwëllt de Klebstoff a gëtt mëll, d'Linnen sinn net kloer, d'Faarf ass däischter, a souguer degumméiert, an de Film verdréit während der Première. -plating oder electroplating Prozess. , Seepage oder souguer eroffalen. Wann d'Belaaschtung ze héich ass, verursaacht et Probleemer wéi Schwieregkeeten an der Entwécklung, bréchege Film a Reschtkleim. Wat méi eescht ass, ass datt falsch Beliichtung eng Ofwäichung vun der Bildlinnbreet verursaacht. Exzessiv Belaaschtung wäert d'Linnen vun der Musterplatting dënnen an d'Linnen vum Drock an Ätzen méi déck maachen. Am Géigendeel, net genuch Belaaschtung wäert d'Linnen vum Musterplatting méi dënn maachen. Grof fir déi gedréckte Ätze Linnen méi dënn ze maachen.