ઈલેક્ટ્રોનિક ઉત્પાદનોનું કદ પાતળું અને નાનું થઈ રહ્યું છે, અને બ્લાઈન્ડ વિઆસ પર સીધા જ સ્ટેકીંગ વિઆસ એ ઉચ્ચ-ઘનતા ઇન્ટરકનેક્શન માટેની ડિઝાઇન પદ્ધતિ છે. છિદ્રોને સ્ટેક કરવાનું સારું કામ કરવા માટે, સૌ પ્રથમ, છિદ્રની નીચેની સપાટતા સારી રીતે કરવી જોઈએ. ત્યાં ઘણી ઉત્પાદન પદ્ધતિઓ છે, અને ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ છિદ્ર ભરવાની પ્રક્રિયા પ્રતિનિધિઓમાંની એક છે.
1. ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ અને હોલ ફિલિંગના ફાયદા:
(1) તે પ્લેટ પર સ્ટેક્ડ છિદ્રો અને છિદ્રોની ડિઝાઇન માટે અનુકૂળ છે;
(2) વિદ્યુત કામગીરીમાં સુધારો કરો અને ઉચ્ચ-આવર્તન ડિઝાઇનમાં મદદ કરો;
(3) ગરમીને દૂર કરવામાં મદદ કરે છે;
(4) પ્લગ હોલ અને ઇલેક્ટ્રિકલ ઇન્ટરકનેક્શન એક પગલામાં પૂર્ણ થાય છે;
(5) બ્લાઇન્ડ હોલ ઇલેક્ટ્રોપ્લેટેડ કોપરથી ભરેલો છે, જે વાહક એડહેસિવ કરતાં વધુ વિશ્વસનીયતા અને સારી વાહકતા ધરાવે છે.
 
2. ભૌતિક પ્રભાવ પરિમાણો
ભૌતિક પરિમાણો જેનો અભ્યાસ કરવાની જરૂર છે તેમાં નીચેનાનો સમાવેશ થાય છે: એનોડ પ્રકાર, કેથોડ અને એનોડ વચ્ચેનું અંતર, વર્તમાન ઘનતા, આંદોલન, તાપમાન, રેક્ટિફાયર અને વેવફોર્મ વગેરે.
(1) એનોડ પ્રકાર. જ્યારે એનોડના પ્રકારની વાત આવે છે, ત્યારે તે દ્રાવ્ય એનોડ અને અદ્રાવ્ય એનોડ સિવાય બીજું કંઈ નથી. દ્રાવ્ય એનોડ સામાન્ય રીતે ફોસ્ફરસ ધરાવતા તાંબાના દડા હોય છે, જે એનોડ કાદવ માટે સંવેદનશીલ હોય છે, પ્લેટિંગ સોલ્યુશનને પ્રદૂષિત કરે છે અને પ્લેટિંગ સોલ્યુશનની કામગીરીને અસર કરે છે. અદ્રાવ્ય એનોડ, સારી સ્થિરતા, એનોડ જાળવણીની જરૂર નથી, એનોડ મડ જનરેશન નથી, પલ્સ અથવા ડીસી ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ માટે યોગ્ય; પરંતુ ઉમેરણોનો વપરાશ પ્રમાણમાં મોટો છે.
(2) કેથોડ અને એનોડ અંતર. ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ હોલ ભરવાની પ્રક્રિયામાં કેથોડ અને એનોડ વચ્ચેના અંતરની ડિઝાઇન ખૂબ જ મહત્વપૂર્ણ છે, અને વિવિધ પ્રકારના સાધનોની ડિઝાઇન પણ અલગ છે. ભલે તે કેવી રીતે ડિઝાઇન કરવામાં આવે, તે ફરાહના પ્રથમ કાયદાનું ઉલ્લંઘન ન કરવું જોઈએ.
(3) જગાડવો. યાંત્રિક સ્વિંગ, ઇલેક્ટ્રીક વાઇબ્રેશન, ન્યુમેટિક વાઇબ્રેશન, એર સ્ટિરિંગ, જેટ ફ્લો વગેરે સહિત ઘણા પ્રકારના stirring છે.
ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ હોલ ફિલિંગ માટે, સામાન્ય રીતે પરંપરાગત કોપર સિલિન્ડરની ગોઠવણીના આધારે જેટ ડિઝાઇન ઉમેરવાનું પસંદ કરવામાં આવે છે. જેટ ટ્યુબ પર જેટની સંખ્યા, અંતર અને કોણ એ તમામ પરિબળો છે જેને કોપર સિલિન્ડરની ડિઝાઇનમાં ધ્યાનમાં લેવાના હોય છે અને મોટી સંખ્યામાં પરીક્ષણો હાથ ધરવા જોઈએ.
(4) વર્તમાન ઘનતા અને તાપમાન. નીચી વર્તમાન ઘનતા અને નીચું તાપમાન સપાટી પર તાંબાના જમા થવાના દરને ઘટાડી શકે છે, જ્યારે છિદ્રોમાં પૂરતું Cu2 અને બ્રાઇટનર પ્રદાન કરે છે. આ સ્થિતિમાં, છિદ્ર ભરવાની ક્ષમતામાં વધારો થાય છે, પરંતુ પ્લેટિંગ કાર્યક્ષમતા પણ ઓછી થાય છે.
(5) રેક્ટિફાયર. ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ પ્રક્રિયામાં રેક્ટિફાયર એક મહત્વપૂર્ણ કડી છે. હાલમાં, ઈલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ દ્વારા હોલ ફિલિંગ પર સંશોધન મોટે ભાગે ફુલ-બોર્ડ ઈલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ સુધી મર્યાદિત છે. જો પેટર્ન પ્લેટિંગ હોલ ફિલિંગ ગણવામાં આવે તો કેથોડ વિસ્તાર ખૂબ નાનો બની જશે. આ સમયે, રેક્ટિફાયરની આઉટપુટ ચોકસાઈ પર ખૂબ જ ઊંચી જરૂરિયાતો મૂકવામાં આવે છે. રેક્ટિફાયરની આઉટપુટ ચોકસાઈ ઉત્પાદનની લાઇન અને વાયા છિદ્રના કદ અનુસાર પસંદ કરવી જોઈએ. લીટીઓ જેટલી પાતળી અને નાના છિદ્રો, રેક્ટિફાયર માટે ચોકસાઇની જરૂરિયાતો વધારે હોવી જોઈએ. સામાન્ય રીતે, 5% ની અંદર આઉટપુટ ચોકસાઈ સાથે રેક્ટિફાયર પસંદ કરવાની સલાહ આપવામાં આવે છે.
(6) વેવફોર્મ. હાલમાં, વેવફોર્મના પરિપ્રેક્ષ્યમાં, બે પ્રકારના ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ અને છિદ્રો ભરવા છે: પલ્સ ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ અને ડાયરેક્ટ કરંટ ઇલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ. પરંપરાગત રેક્ટિફાયરનો ઉપયોગ ડાયરેક્ટ કરંટ પ્લેટિંગ અને હોલ ફિલિંગ માટે કરવામાં આવે છે, જે ચલાવવામાં સરળ છે, પરંતુ જો પ્લેટ વધુ જાડી હોય, તો ત્યાં કશું કરી શકાતું નથી. PPR રેક્ટિફાયરનો ઉપયોગ પલ્સ ઈલેક્ટ્રોપ્લેટિંગ અને હોલ ફિલિંગ માટે થાય છે, અને તેમાં ઘણા ઓપરેશન સ્ટેપ્સ છે, પરંતુ તે જાડા બોર્ડ માટે મજબૂત પ્રોસેસિંગ ક્ષમતા ધરાવે છે.