La exposición significa que bajo la irradiación de luz ultravioleta, el fotoiniciador absorbe la energía luminosa y se descompone en radicales libres, y los radicales libres luego inician el monómero de fotopolimerización para llevar a cabo la reacción de polimerización y reticulación. La exposición se realiza generalmente en una máquina automática de exposición a doble cara. Ahora la máquina de exposición se puede dividir en enfriada por aire y enfriada por agua según el método de enfriamiento de la fuente de luz.

Factores que afectan la calidad de la imagen de exposición

Además del rendimiento de la película fotorresistente, los factores que afectan la calidad de las imágenes de exposición son la selección de fuentes de luz, el control del tiempo de exposición (cantidad de exposición) y la calidad de las placas fotográficas.

1) La elección de la fuente de luz.

Cualquier tipo de película tiene su propia curva espectral de absorción, y cualquier tipo de fuente de luz también tiene su propia curva espectral de emisión. Si el pico principal de absorción espectral de un determinado tipo de película puede superponerse o superponerse en gran medida con el pico principal de emisión espectral de una determinada fuente de luz, los dos coinciden bien y el efecto de exposición es el mejor.

La curva de absorción espectral de la película seca doméstica muestra que la región de absorción espectral es de 310 a 440 nm (nanómetros). A partir de la distribución de energía espectral de varias fuentes de luz, se puede ver que la lámpara pick, la lámpara de mercurio de alta presión y la lámpara de yodo y galio tienen una intensidad de radiación relativa relativamente grande en el rango de longitud de onda de 310-440 nm, que es una fuente de luz ideal para exposición de la película. Las lámparas de xenón no son adecuadas paraexposiciónde películas secas.

Una vez seleccionado el tipo de fuente de luz, también se debe considerar la fuente de luz de mayor potencia. Debido a la alta intensidad de la luz, la alta resolución y el corto tiempo de exposición, el grado de deformación térmica de la placa fotográfica también es pequeño. Además, el diseño de las lámparas también es muy importante. Es necesario intentar que la luz incidente sea uniforme y paralela, para evitar o reducir el mal efecto después de la exposición.

2) Control del tiempo de exposición (cantidad de exposición)

Durante el proceso de exposición, la fotopolimerización de la película no es “de un solo disparo” o de “una sola exposición”, sino que generalmente pasa por tres etapas.

Debido a la obstrucción del oxígeno u otras impurezas nocivas en la membrana, se requiere un proceso de inducción, en el que los radicales libres generados por la descomposición del iniciador son consumidos por el oxígeno y las impurezas, y la polimerización del monómero es mínima. Sin embargo, cuando termina el período de inducción, la fotopolimerización del monómero avanza rápidamente y la viscosidad de la película aumenta rápidamente, acercándose al nivel de cambio repentino. Esta es la etapa de consumo rápido del monómero fotosensible, y esta etapa representa la mayor parte de la exposición durante el proceso de exposición. La escala de tiempo es muy pequeña. Cuando se consume la mayor parte del monómero fotosensible, ingresa a la zona de agotamiento del monómero y en este momento se completa la reacción de fotopolimerización.

El control correcto del tiempo de exposición es un factor muy importante para obtener imágenes con buena resistencia a la película seca. Cuando la exposición es insuficiente, debido a la polimerización incompleta de los monómeros, durante el proceso de revelado, la película adhesiva se hincha y se vuelve blanda, las líneas no son claras, el color es opaco e incluso desgomado, y la película se deforma durante la fase previa. -Proceso de enchapado o galvanoplastia. , filtración o incluso caída. Cuando la exposición es demasiado alta, causará problemas como dificultad en el revelado, película quebradiza y pegamento residual. Lo que es más grave es que una exposición incorrecta provocará una desviación del ancho de línea de la imagen. Una exposición excesiva adelgazará las líneas del estampado y hará que las líneas de impresión y grabado sean más gruesas. Por el contrario, una exposición insuficiente hará que las líneas del patrón se vuelvan más delgadas. Grueso para hacer las líneas grabadas impresas más delgadas.